ASML Holding nie produkuje półprzewodników, ale bez jej maszyn nie powstałyby najbardziej zaawansowane procesory. Holenderska spółka zbudowała pozycję technologiczną, której inni mogą tylko pozazdrościć. Jest jedynym dostawcą systemów litografii EUV, a jej kolejnym krokiem jest High NA EUV – technologia przeznaczona do układów poniżej 2 nm.
- ASML jako jedyna firma na świecie dostarcza maszyny do litografii EUV
- Systemy High NA EUV mają zwiększyć rozdzielczość i ograniczyć liczbę etapów produkcji chipów
- W 2025 r. firma wydała 4,7 mld euro na badania i rozwój
- W lipcu 2026 r. ASML ogłosił pierwszy produkt logiczny wytwarzany z użyciem High NA EUV
Litografia polega na przenoszeniu wzoru układu scalonego na krzemowy wafel. Proces jest powtarzany ponad sto razy, warstwa po warstwie, a każda niedokładność może obniżyć uzysk produkcyjny. W najbardziej zaawansowanych systemach ASML wykorzystuje ekstremalny ultrafiolet o długości fali 13,5 nm. Światło powstaje po uderzeniu potężnego lasera w mikroskopijne krople cyny, a następnie jest kierowane przez układ niezwykle precyzyjnych luster.
Zapisz się na newsletter BGR. Otrzymuj najlepsze informacje i porady, a także zaproszenia na eventy.
Klikając „Zapisz mnie”, potwierdzasz, że przeczytałeś i zgadzasz się z naszą Polityką prywatności.
To technologia o skali trudnej do porównania z typową maszyną przemysłową. System EUV zawiera około 100 tys. części, a jego powstanie wymaga współpracy tysięcy dostawców. ASML nie buduje wszystkiego samodzielnie: rozwija architekturę urządzenia i integruje elementy pochodzące m.in. od wyspecjalizowanych producentów optyki, laserów i układów pomiarowych. Ta sieć jest równie ważna jak patenty spółki.
Najnowszą generacją jest High NA EUV. Skrót oznacza wyższą aperturę numeryczną – 0,55 zamiast 0,33 w klasycznych systemach EUV. Dzięki temu TWINSCAN EXE:5000 osiąga rozdzielczość 8 nm i pozwala drukować mniejsze elementy przy pojedynczej ekspozycji. Następca, EXE:5200B, jest projektowany z myślą o seryjnej produkcji procesorów poniżej 2 nm i najbardziej zaawansowanych pamięci DRAM.
Innowacja to nie tylko maszyna
Przewaga ASML nie kończy się na źródle światła. Firma rozwija litografię obliczeniową, systemy metrologii i inspekcji oraz oprogramowanie, które koryguje odchylenia procesu w czasie produkcji.
Dane z pomiarów wracają do systemu, przez co fabryka może poprawiać ustawienia i zwiększać odsetek sprawnych chipów. W praktyce klient kupuje więc nie pojedyncze urządzenie, lecz zintegrowany ekosystem sprzętu, algorytmów i serwisu.
Skala inwestycji pokazuje, jak kosztowny jest ten wyścig. W 2025 r. ASML przeznaczył na badania i rozwój 4,7 mld euro, o 9,2% więcej niż rok wcześniej. W drugim kwartale 2026 r. wydatki R&D wyniosły 1,3 mld euro, przy sprzedaży 9,3 mld euro i zysku netto 2,9 mld euro.
W lipcu firma poinformowała także, że Intel wykorzystuje High NA EUV w procesie Intel 18A do produkcji części procesorów Core Ultra Series 3. To ważny sygnał, że nowa platforma wychodzi z laboratoriów i zaczyna być sprawdzana w rzeczywistym środowisku produkcyjnym.
Jednocześnie firma nie może opierać przyszłości wyłącznie na najdroższych urządzeniach. Starsze systemy DUV nadal odpowiadają za wiele warstw chipów i pozostają potrzebne w motoryzacji, przemyśle oraz elektronice użytkowej. ASML rozwija więc równolegle różne generacje maszyn, modernizuje już zainstalowane urządzenia i zarabia na ich wieloletnim serwisowaniu.
Dla Polski znaczenie ASML jest pośrednie, ale strategiczne. Kraj nie ma fabryki najbardziej zaawansowanych układów, lecz polityka półprzewodnikowa 2026+ zakłada rozwój projektowania, infrastruktury badawczej i pilotażowej linii do 2028 r. Komisja Europejska rekomenduje też inwestycje w technologie back-end i specjalistyczne kadry, które mogą włączyć Polskę w europejski łańcuch wartości.
Sprawdź też: Szefowie firm technologicznych boją się o życie. Chodzi o AI
